基板加熱装置及び基板加熱方法

開放特許情報番号

L2024000961

開放特許情報登録日

2024/5/1

最新更新日

2024/5/1

基本情報

出願番号	特願2016-167693
出願日	2016/8/30
出願人	東京応化工業株式会社
公開番号	特開2018-037482
公開日	2018/3/8
登録番号	特許第6789040号
特許権者	東京応化工業株式会社
発明の名称	基板加熱装置及び基板加熱方法
技術分野	機械・加工、有機材料
機能	加熱・冷却、加圧・減圧、機械・部品の製造
適用製品	基板加熱装置
目的	基板加熱装置の加熱部の降温タクトタイム短縮化
効果	基板の加熱部の降温に要するタクトタイムの短縮化
技術概要	溶液を塗布した基板の収容空間の減圧部と、基板の一方側の加熱部と、基板の他方側の赤外線ヒータと、前記加熱部を冷却可能な冷却機構と、を含み、前記冷却機構は、前記加熱部の内部に配置されるとともに、冷媒を通過可能とする冷媒通過部を含む基板加熱装置により、加熱部の降温に要するタクトタイムを短縮化する。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【可】
特許権実施許諾	【可】 実施権条件 応相談 希望譲渡先（国内） 【可】  希望譲渡先（国外） 【可】

登録者情報

登録者名称	東京応化工業株式会社

技術供与

ノウハウ提供レベル	量産仕様の提供 【否】 特殊仕様の提供 【否】

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】