表面修飾多孔質膜の製造方法

開放特許情報番号
L2024000855
開放特許情報登録日
2024/4/17
最新更新日
2024/4/17

基本情報

出願番号 特願2022-086311
出願日 2022/5/26
出願人 学校法人 工学院大学
公開番号 特開2023-173814
公開日 2023/12/7
発明の名称 表面修飾多孔質膜の製造方法
技術分野 機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 表面修飾多孔質膜の製造方法
目的 ファウリングが抑制される多孔質膜を大面積でも簡便に製造することができる表面修飾多孔質膜の製造方法を提供する。
効果 ファウリングが抑制される多孔質膜を大面積でも簡便に製造することができる表面修飾多孔質膜の製造方法が提供される。
技術概要
多孔質構造を有する膜素材を、水及びオゾンを含む第1処理液に浸漬する第1処理工程と、
前記膜素材を前記第1処理液から取り出し、原子移動ラジカル重合開始剤を含む第2処理液に浸漬する第2処理工程と、
前記膜素材を前記第2処理液から取り出し、水、2−メトキシエチルアクリレート、還元剤、配位子、及び触媒を含む第3処理液に浸漬して前記膜素材にポリ(2−メトキシエチルアクリレート)を固定する第3処理工程と、
を含む表面修飾多孔質膜の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 工学院大学研究シーズ集(全体)
https://www.kogakuin.ac.jp/research/seeds/index.html

研究活動報告書
https://www.kogakuin.ac.jp/research/r_insutitute/report_list.html

研究室一覧(全体)
https://www.kogakuin.ac.jp/faculty/lab/index.html

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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