金属膜形成用組成物および金属膜形成方法
- 開放特許情報番号
- L2024000837
- 開放特許情報登録日
- 2024/4/17
- 最新更新日
- 2024/4/17
基本情報
| 出願番号 | 特願2017-565604 |
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| 出願日 | 2017/2/1 |
| 出願人 | 学校法人 工学院大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2017/8/10 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 学校法人 工学院大学 |
| 発明の名称 | 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法 |
| 技術分野 | 金属材料、有機材料、化学・薬品 |
| 機能 | 材料・素材の製造、表面処理 |
| 適用製品 | 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法 |
| 目的 | 基材との密着性に優れた金属膜を簡易に形成しうる金属膜形成用組成物
と金属膜形成方法を提供する。 |
| 効果 | 基材との密着性に優れた金属膜を簡易に形成しうる金属膜形成用組成物
と金属膜形成方法を提供することができる。 |
技術概要) |
下記一般式（１）、一般式（２）または一般式（３）で表される金属錯体と、前記金属錯体の対アニオンと、前記金属錯体の溶剤とを含む金属膜形成用組成物。一般式（１）〜一般式（３）中、Ｍ↑１およびＭ↑３は、それぞれ独立に、Ａｇ、Ｃｕ、Ｌｉ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、およびＣｏからなる群より選ばれる金属原子を、Ｍ↑３は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｍｎ、およびＣｏからなる群より選ばれる金属原子をそれぞれ表す。Ｌ↑(１１)〜Ｌ↑(３２)は、それぞれ独立にＮＨ↓３配位子、Ｒ↑１ＮＨ↓２配位子、ＯＨ↓２配位子、またはジアミン由来の配位子を表し、Ｒ↑１はアルキレン基を表す。1ｎ、1ｍ、3ｎおよび3ｍは、それぞれ独立に０〜８の整数を表し、2ｎおよび2ｍは、それぞれ独立に０〜４の整数を表し、1ｎ＋1ｍは４〜８の範囲であり、2ｎ＋2ｍは２〜４の範囲であり、3ｎ＋3ｍは２〜８の範囲であり、それぞれ、Ｍ↑１〜Ｍ↑３で表される金属原子の価数に応じて決定される整数を表す。 |
| イメージ図 | |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
)
アピール情報
| アピール内容 | 工学院大学研究シーズ集（全体）
https://www.kogakuin.ac.jp/research/seeds/index.html 研究活動報告書 https://www.kogakuin.ac.jp/research/r_insutitute/report_list.html 研究室一覧（全体） https://www.kogakuin.ac.jp/faculty/lab/index.html |
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登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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