画像処理装置、画像処理方法、及び画像処理プログラム
- 開放特許情報番号
- L2024000759
- 開放特許情報登録日
- 2024/4/9
- 最新更新日
- 2024/4/9
基本情報
出願番号 | 特願2020-206124 |
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出願日 | 2020/12/11 |
出願人 | 学校法人 工学院大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2021/6/24 |
登録番号 | |
特許権者 | 学校法人 工学院大学 |
発明の名称 | 画像処理装置、画像処理方法、及び画像処理プログラム |
技術分野 | 情報・通信、電気・電子 |
機能 | 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア |
適用製品 | 画像処理装置、画像処理方法、及び画像処理プログラム |
目的 | 単に濃度量子を配置することにより三次元画像を再構成する場合と比較して、精度良く三次元画像を再構成することができる画像処理装置、画像処理方法、及び画像処理プログラムを提供する。 |
効果 | 単に濃度量子を配置することにより三次元画像を再構成する場合と比較して、精度良く三次元画像を再構成することができる。 |
技術概要![]() |
試料に対する複数の角度における複数の第1の投影像を取得する取得部と、
前記複数の第1の投影像及び再構成像の前記複数の角度における複数の第2の投影像に基づいて誤差分布を算出する算出部と、 前記誤差分布に基づいて、濃度値を量子化した濃度量子を配置することにより再構成像を生成する生成部と、 生成された前記再構成像及び前記誤差分布に基づいて前記濃度量子を再配置する再配置部と、 を備え、 前記再配置部は、前記誤差分布に基づいて、前記再構成像を構成する画素のうち前記試料に対して照射された電子線の照射方向に沿った画素列の中で前記濃度量子の数が最も多い画素から前記画素列の中で前記濃度量子の数が最も少ない画素に前記濃度量子を移動させることにより、前記濃度量子を再配置する 画像処理装置。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
アピール情報
アピール内容 | 工学院大学研究シーズ集(全体)
https://www.kogakuin.ac.jp/research/seeds/index.html 研究活動報告書 https://www.kogakuin.ac.jp/research/r_insutitute/report_list.html 研究室一覧(全体) https://www.kogakuin.ac.jp/faculty/lab/index.html |
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登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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