形状測定方法及び形状測定装置
- 開放特許情報番号
- L2024000595
- 開放特許情報登録日
- 2024/3/27
- 最新更新日
- 2024/3/27
基本情報
出願番号 | 特願2018-502540 |
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出願日 | 2016/12/21 |
出願人 | 国立大学法人電気通信大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2017/9/8 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立大学法人電気通信大学 |
発明の名称 | 形状測定方法及び形状測定装置 |
技術分野 | 情報・通信 |
機能 | 機械・部品の製造、検査・検出 |
適用製品 | 形状測定方法及び形状測定装置 |
目的 | ナノメートルオーダーの測定分解能とメートルオーダーの測定範囲とフェムト秒オーダーの時間分解能とを実現可能な形状測定方法及び形状測定装置を提供する。 |
効果 | メートルオーダーの広い測定範囲が実現される。また、ナノメートルオーダーの測定分解能とフェムト秒オーダーの時間分解能とを実現可能な形状測定方法及び形状測定装置が得られる。 |
技術概要![]() |
時間軸に対する所定の周波数分布を有する光パルスが時系列に番号順に複数配された光パルス列を被測定物体に照射する工程と、
出射された前記光パルス列が前記被測定物体の互いに異なる位置に作用した後の複数の受光対象光パルス列同士の前記光パルスの前記番号の差と、前記光パルス内の前記周波数の差とによって前記被測定物体の光学的形状を測定する工程と、 を備え、 前記光パルス列を前記被測定物体に照射する工程において、 光パルスは時系列に時間間隔を空けて番号順に複数配され、互いにコヒーレントであり、前記時系列で隣り合う前記光パルス同士の位相がずれており、 前記被測定物体の光学的形状を測定する工程において、 前記受光対象光パルス列の光パルスの時系列における番号順の配置は出射直後の前記光パルスの時系列における番号順の配置と同じである、 形状測定方法。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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