化合物、表面処理剤、及び表面処理方法
- 開放特許情報番号
- L2024000560
- 開放特許情報登録日
- 2024/3/19
- 最新更新日
- 2024/3/19
基本情報
| 出願番号 | 特願2016-094826 |
|---|---|
| 出願日 | 2016/5/10 |
| 出願人 | 学校法人神奈川大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2016/12/15 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 学校法人神奈川大学 |
| 発明の名称 | 化合物、表面処理剤、及び表面処理方法 |
| 技術分野 | 有機材料 |
| 機能 | 材料・素材の製造、表面処理 |
| 適用製品 | 化合物、表面処理剤、及び表面処理方法 |
| 目的 | 表面処理剤としての使用に適した安定性の高い新規な化合物、該化合物を含有する表面処理剤及び表面処理方法の提供。 |
| 効果 | 表面処理剤としての使用に適した、安定性の高い新規な化合物、このような化合物を含有する表面処理剤、及び表面処理方法を提供することができる。 |
技術概要) |
下記式（Ｉ）で表される化合物（但し、Ｎ−ｎｉｔｒｏｖｅｒａｔｒｙｌｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌ−ａｍｉｎｏｍｅｔｈｙｌｐｈｏｓｐｈｏｎｉｃａｃｉｄを除く。）。
【化１】 （Ｒ↓１〜Ｒ↓４は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は置換基としてパーフルオロアルキル基を有してもよいアルコキシ基であり、 Ｒ↓５は、水素原子又は、置換基としてハロゲン原子を有してもよい炭素数が１〜６であるアルキル基であり、 Ｘは、以下の式（ＩＩ）〜（ＶＩＩＩ）のいずれかで表される基であり、 Ｒ↓６は、前記Ｘが以下の式（ＩＩ）〜（ＶＩＩ）のいずれかで表される基である場合、アルキレン基であり、前記Ｘが以下の式（ＶＩＩＩ）で表される基である場合、単結合又はアルキレン基である。） 【化２】 【化３】 |
| イメージ図 | |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
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登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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