マスク
- 開放特許情報番号
- L2024000556
- 開放特許情報登録日
- 2024/4/2
- 最新更新日
- 2024/4/2
基本情報
| 出願番号 | 特願2020-087958 |
|---|---|
| 出願日 | 2020/5/20 |
| 出願人 | 松岡 孝夫 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2021/11/25 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 松岡 孝夫 |
| 発明の名称 | マスク |
| 技術分野 | 生活・文化 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | 鼻および口を覆うマスクに関し、特に、低コストで大量生産することができるマスク |
| 目的 | 立体的に装着することができ、しかも、縫製および接着不要により低コストで大量生産することができるマスクを提供する。 |
| 効果 | 立体的に装着することができ、しかも、縫製および接着不要により低コストで大量生産することができる。 |
技術概要) |
伸縮性および弾力性を有する１枚の平板状の布地からなり、
前記布地は、 装着時に鼻、口およびおとがいを覆う本体部と、 耳掛け孔を有し、前記本体部の左右にそれぞれ形成された耳掛けと、 前記耳掛けよりも左右方向内側、かつ、前記布地の上下方向中間部から上端までの任意の位置に形成され、前記耳掛けを通すための左右の通し孔と、 前記布地の下側かつ前記本体部の左右方向外側部分であって装着時に下顎角部を覆う下顎角囲み部と、を備え、 前記耳掛けを前記布地の内側から外側に向かって前記通し孔に通し、前記本体部を鼻および口にあてて前記耳掛けを左右に引っ張って耳に掛けることにより、前記本体部の上側および中央が鼻および口を覆うとともに前記本体部の下側がおとがいをくるみ、かつ、前記下顎角囲み部が下顎角部をくるむよう構成されている ことを特徴とするマスク。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【可】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | 松岡 孝夫 |
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その他の情報
| 関連特許 |
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