２次元分光計測方法及び２次元分光計測装置
- 開放特許情報番号
- L2024000372
- 開放特許情報登録日
- 2024/2/29
- 最新更新日
- 2024/2/29
基本情報
| 出願番号 | 特願2019-509004 |
|---|---|
| 出願日 | 2019/1/22 |
| 出願人 | 国立大学法人電気通信大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2019/9/6 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人電気通信大学 |
| 発明の名称 | ２次元分光計測方法及び２次元分光計測装置 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造、検査・検出 |
| 適用製品 | ２次元分光計測方法及び２次元分光計測装置 |
| 目的 | 瞬時に高解像度の分光情報を取得し、リアルタイムで２次元分光計測を可能とする２次元分光計測方法及び２次元分光計測装置を提供する。 |
| 効果 | 瞬時に高解像度の分光情報を取得し、リアルタイムで２次元分光計測を可能とする２次元分光計測方法及び２次元分光計測装置が提供される。 |
技術概要) |
周波数軸で零に対して所定のオフセット周波数を有する第１の周波数モードと周波数軸で第１の周波数モードに対して所定の繰り返し周波数の整数倍の間隔をあけて並ぶ複数の第２の周波数モードとを有し、繰り返し周波数がオフセット周波数の４倍である第１の光周波数コムを生成する光周波数コム生成工程と、
第１の光周波数コムを第２と第３の光周波数コムに分け、第２の光周波数コムを第４と第５の光周波数コムに分け、第４の光周波数コムの時間軸上の位相を第５の光周波数コムの時間軸上の位相に対して９０°ずらす位相差付与工程と、 第３または第４及び第５の光周波数コムを試料に照射し、試料から出射されて光学情報を含む第３、または第４及び第５の光周波数コムを得る試料照射工程と、 何れかに光学情報を含む第４と第３の光周波数コムとを干渉させて第１の干渉信号を生成し、何れかに光学情報を含む第５と第３の光周波数コムとを干渉させて第２の干渉信号を生成する干渉信号生成工程と、 第１と第２の干渉信号から包絡線強度を取得する包絡線強度取得工程と、 包絡線強度に基づいて試料の光学情報を抽出する光学情報抽出工程と、 を備える２次元分光計測方法。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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