目的
より少ない試料の電子線の被曝を可能にすると共に、選択可能な所望のコントラストで良好な資料の可視化を可能とした操作性にも優れた位相差透過型電子顕微鏡装置を提供する。
効果
試料物体への電子線被曝を抑えつつ、試料物体の電子線の位相変化を画像化し、電子線の位相変化の分布を定量的に計測する位相差走査型の透過電子顕微鏡を提供することが可能となる。
技術概要
電子銃と、
前記電子銃から放射された電子線を収束する収束光学系と、
前記収束光学系からの電子線を試料に対して水平方向に走査するように偏向するためのスキャニング手段と、
前記スキャニング手段で偏向された電子線を前記試料に照射する対物レンズと、
前記試料を透過した電子線の強度を検出する手段とを備えた走査透過電子顕微鏡装置において、
前記電子銃と前記対物レンズの間の、対物レンズ前方焦点面とは異なった位置に配置され、前記電子銃から放射された電子線を予め設定された比率の主プローブ波と参照波に変換するビームスプリッタを備え、
前記ビームスプリッタは、前記主プローブ波及び前記参照波の少なくとも一方に対し収束もしくは発散のレンズ効果を持ち、かつ、前記主プローブ波と前記参照波の其々に対して異なった焦点距離を有することを特徴とする位相差走査透過電子顕微鏡装置。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
