位相差透過電子顕微鏡装置
- 開放特許情報番号
- L2024000354
	
- 開放特許情報登録日
- 2024/2/28
- 最新更新日
- 2024/2/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2018-508078 | 
|---|---|
| 出願日 | 2017/3/28 | 
| 出願人 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | 
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2017/10/5 | 
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | 
| 発明の名称 | 位相差透過電子顕微鏡装置 | 
| 技術分野 | 電気・電子 | 
| 機能 | 機械・部品の製造 | 
| 適用製品 | 透過電子顕微鏡装置 | 
| 目的 | 位相変調量を簡単・瞬時かつ連続的に可変調整することが可能であり、試料透過後の電子線を吸収することもなく、しかも、従来の位相板のように電子線の照射等の誤操作などでも簡単に壊れることなく、その取り扱いも簡単で、かつ、寿命の長い位相変調手段を実現し、機能的にも優れた高いコントラストの位相差透過電子顕微鏡を提供する。 | 
| 効果 | 位相変調量が可変であり、試料への電子線被曝を最小化し、かつ、電子線の照射等によって壊れず、実質的に無制限な寿命を有する電子顕微鏡用ゼルニケ位相板を実現し、試料物体による電子線の位相変化を高コントラストで画像化し、試料物体による電子線の位相および振幅の変化の分布、ならびにビジビリティの分布を定量的に計測することが可能な透過電子顕微鏡を提供することが可能となる。 | 
| 技術概要  | 電子線を放射する電子源と、 対物レンズと、 前記電子線源と前記対物レンズの間に配置され、試料を保持するための試料保持台と、 前記対物レンズの後方に配置された結像光学系と、 前記結像光学系による試料像を、電子線の強度分布として検出するための手段と、 を備えた透過電子顕微鏡装置であって、 前記対物レンズの背後の焦点面上において、前記電子線に、その進行方向と平行である電場の向きを有するレーザー光を照射する第1のレーザー光照射手段と、 前記電子線源と前記対物レンズの間において前記電子線源から放射された電子線を集光する第1の集光レンズを備え、当該第1の集光レンズの焦点面上においてレーザーを照射する第2のレーザー光照射手段と、 を備えていることを特徴とする位相差透過電子顕微鏡装置。 | 
| 実施実績 | 【無】 | 
| 許諾実績 | 【有】 | 
| 特許権譲渡 | 【否】 | 
| 特許権実施許諾 | 【可】 | 
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 | 
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