レーザー装置

開放特許情報番号
L2024000119
開放特許情報登録日
2024/1/30
最新更新日
2024/1/30

基本情報

出願番号 特願2018-092757
出願日 2018/5/14
出願人 大学共同利用機関法人自然科学研究機構
公開番号 特開2019-201015
公開日 2019/11/21
登録番号 特許第7185893号
特許権者 大学共同利用機関法人自然科学研究機構
発明の名称 レーザー装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 レーザー装置の冷却機構
目的 液体金属を冷媒として用い、レーザー装置の冷却効率の向上を図る。
効果 レーザー装置の冷却効率の向上に利用できる。
技術概要
レーザー装置において、液体金属を用いた冷却機構を設けるとともに、冷却に伴ってレーザー材料に生じる温度分布の偏りによる影響を抑制するための温度分布抑制構造をレーザー材料および冷却機構に備える。第一の態様として、レーザー材料をスラブ形状などレーザー光が反射しながら進行する形状とし、液体金属を貯留する冷却槽に、レーザー材料の端面は冷却槽から出した状態で側面のみを収容する。第二の態様として、レーザー材料をディスク形状のホスト材料と放熱部材とを積層したDFC構造とし、レーザー材料の周囲に液体金属を流すための流路を設ける。これらの態様により、レーザー材料内の温度分布の偏りによる影響を抑制しつつ、冷却効率を向上させることができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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