薄膜密着強度評価方法、薄膜密着強度評価装置及び試験用基板
- 開放特許情報番号
- L2023001799
- 開放特許情報登録日
- 2023/12/28
- 最新更新日
- 2023/12/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2021-090683 |
|---|---|
| 出願日 | 2021/5/28 |
| 出願人 | 学校法人 中央大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2022/12/8 |
| 発明の名称 | 薄膜密着強度評価方法、薄膜密着強度評価装置及び試験用基板 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 制御・ソフトウェア、機械・部品の製造 |
| 適用製品 | 薄膜密着強度評価方法、薄膜密着強度評価装置及び試験用基板 |
| 目的 | 密着強度の評価を適切に行える薄膜密着強度評価方法、薄膜密着強度評価装置及び試験用基板を提供する。 |
| 効果 | 密着強度の評価を適切に行える薄膜密着強度評価方法、薄膜密着強度評価装置及び試験用基板を提供することができる。 |
技術概要) |
基板上に薄膜が形成された薄膜形成基板における当該薄膜と当該基板との密着強度を評価する薄膜密着強度評価方法であって、
圧力伝播層の面上に、レーザー光を受光して衝撃波を発生するエネルギー吸収層を形成する吸収層形成工程、 前記圧力伝播層における、前記エネルギー吸収層の反対側の面上に接着層を形成する接着層形成工程、 前記接着層における前記圧力伝播層の反対側の面上に、前記薄膜形成基板における前記薄膜の表面を接着する接着工程、 前記エネルギー吸収層にレーザー光を照射する照射工程、及び、 前記照射工程で生じた衝撃波を前記圧力伝播層及び前記接着層を介して前記薄膜形成基板に伝播させる伝播工程を含み、 前記伝播工程では、前記基板における前記薄膜の反対側の面で前記衝撃波を反射させて膨張波を生じさせ、当該膨張波を前記薄膜に作用させる薄膜密着強度評価方法。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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