マッピング方法及びインデンテーションマッピング装置
- 開放特許情報番号
- L2023001792
- 開放特許情報登録日
- 2023/12/28
- 最新更新日
- 2023/12/28
基本情報
出願番号 | 特願2021-201284 |
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出願日 | 2021/12/10 |
出願人 | 学校法人 中央大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2023/6/22 |
発明の名称 | マッピング方法及びインデンテーションマッピング装置 |
技術分野 | 情報・通信 |
機能 | 制御・ソフトウェア、機械・部品の製造 |
適用製品 | マッピング方法及びインデンテーションマッピング装置 |
目的 | 所定の特性を有する部位の特定についてハイスループットなマッピング方法及びインデンテーションマッピング装置を提供する。 |
効果 | ハイスループットなマッピング方法を提供することができる。 |
技術概要![]() |
試料表面における測定対象領域を決定し、当該測定対象領域を複数の領域に分割したセル領域に分割する分割工程と、
現在の測定対象領域を新たな測定対象領域に更新し、且つ、セル領域を、現在の領域よりも狭い領域に更新する更新工程と、 複数のセル領域の中から探索点とするセル領域を決定する位置決定工程と、 探索点が決定された場合に当該探索点の前記セル領域の情報を測定する測定工程と、 測定対象領域の更新条件を満たしているか否かを判定する領域更新判定工程と、を含み、 前記位置決定工程は、前記測定工程で測定した測定結果を含むマッピングデータに基づいてベイズ最適化を行い、獲得関数の値が最大となる位置に基づいて次回の前記探索点とする前記セル領域を決定し、 前記更新工程は、前記領域更新判定工程において更新条件を満たしていると判定された場合に実行され、 前記更新工程では、新たな前記測定対象領域として、現在の前記測定対象領域に含まれる領域であり、直前の前記ベイズ最適化において導かれた所定の特性に関する期待値が最大又は最小と予測される位置を含む前記セル領域を含み、現在の前記測定対象領域よりも狭い領域を設定するマッピング方法。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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