噴射システム

開放特許情報番号
L2023001494
開放特許情報登録日
2023/11/30
最新更新日
2023/11/30

基本情報

出願番号 特願2017-056053
出願日 2017/3/22
出願人 国立研究開発法人宇宙航空研究開発機構
公開番号 特開2017-180461
公開日 2017/10/5
登録番号 特許第6991542号
特許権者 国立研究開発法人宇宙航空研究開発機構
発明の名称 噴射システム
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 噴射システム
目的 高圧ガス系を用いずに調圧可能な噴射システムを提供する。
効果 噴射システムにおいて、高圧ガスタンク等、別個の高圧ガス系を用いず加圧用物質の気化による調圧が可能となるため、リークの可能性を低減し、また噴射システムの軽量化も可能となる。
技術概要
"噴射用物質と、液体状態及び気体状態の加圧用物質とが予め収容されている収容部と、
前記収容部に収容された前記噴射用物質から噴射流を生成する噴射流生成部と、
前記噴射流生成部で生成された噴射流を噴射する噴射口と、
を備え、
前記噴射用物質と液体状態の前記加圧用物質は混合されており、
液体状態の前記加圧用物質の少なくとも一部が前記収容部内で気化することにより、混合された前記噴射用物質と液体状態の前記加圧用物質が、気体状態の前記加圧用物質により押圧されて、前記収容部から放出される、噴射システム。"
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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