| 出願番号 |
特願2012-508125 |
| 出願日 |
2011/2/2 |
| 出願人 |
住友大阪セメント株式会社 |
| 公開番号 |
WO2011/122100 |
| 公開日 |
2011/10/6 |
| 登録番号 |
特許第5761178号 |
| 特許権者 |
住友大阪セメント株式会社 |
| 発明の名称 |
六ホウ化ランタン焼結体、それを用いたターゲット、六ホウ化ランタン膜、及び該焼結体の製造方法 |
| 技術分野 |
無機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
六ホウ化ランタン（ＬａＢ６）焼結体、スパッタリングターゲット |
| 目的 |
高純度で緻密であって、結晶性に優れ、かつ仕事関数の良好なＬａＢ6薄膜の製造用のスパッタリングターゲットなどとして好適なＬａＢ6焼結体、それを用いてなるターゲット、前記ターゲットを用いて製膜された六ホウ化ランタン膜、及び前記ＬａＢ6焼結体の効果的な製造方法を提供する |
| 効果 |
高純度で緻密であって、結晶性に優れ、かつ仕事関数の良好なＬａＢ6薄膜の製造用のスパッタリングターゲットなどとして好適なＬａＢ6焼結体、それを用いてなるターゲット、前記ターゲットを用いて製膜された六ホウ化ランタン膜、及び前記ＬａＢ6焼結体の効果的な製造方法を提供する |
技術概要
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本発明は、六ホウ化ランタン（ＬａＢ6）焼結体、それを用いたターゲット、六ホウ化ランタン膜、及び前記ＬａＢ6焼結体の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、高純度で緻密であって、結晶性に優れ、かつ仕事関数の良好なＬａＢ6薄膜製造用のスパッタリングターゲットなどとして好適なＬａＢ6焼結体、それを用いてなるターゲット、前記ターゲットを用いて製膜された六ホウ化ランタン膜、及び前記ＬａＢ6焼結体の効果的な製造方法に関するものである。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【可】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
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