AlNテンプレート及びその製造方法
- 開放特許情報番号
- L2023000614
- 開放特許情報登録日
- 2023/6/19
- 最新更新日
- 2023/6/19
基本情報
出願番号 | 特願2021-028849 |
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出願日 | 2021/2/25 |
出願人 | 国立大学法人山口大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2022/9/7 |
発明の名称 | AlNテンプレート及びその製造方法 |
技術分野 | 無機材料、金属材料、電気・電子 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | AlNテンプレート及びその製造方法 |
目的 | 表面の転位密度の低いAlNテンプレートを提供する。 |
効果 | 支持基板の上に形成されたバッファ層の表面に、多数のピットが形成されていることにより、その上に連続して形成されるAlN層では、低転位化が図られることとなり、その結果、転位密度の低い表面を得ることができる。 |
技術概要![]() |
支持基板と、前記支持基板の上にAlNが結晶成長して形成されたバッファ層と、前記バッファ層上に連続してAlNが結晶成長して形成されたAlN層と、を備えたAlNテンプレートであって、
前記バッファ層の前記AlN層側の表面には、ピット密度が1×108cm−2以上の多数のピットが形成されているAlNテンプレート。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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