水素製造装置、及び、水素製造方法
- 開放特許情報番号
- L2023000503
- 開放特許情報登録日
- 2023/5/26
- 最新更新日
- 2024/5/28
基本情報
| 出願番号 | 特願2020-008826 |
|---|---|
| 出願日 | 2020/1/23 |
| 出願人 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2021/8/10 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 発明の名称 | 水素製造装置、及び、水素製造方法 |
| 技術分野 | 金属材料 |
| 機能 | 機械・部品の製造 |
| 適用製品 | 水素製造装置、及び、水素製造方法 |
| 目的 | １００℃を超える高温下でも安定して動作可能な水素製造装置を提供する。水素製造方法を提供する。 |
| 効果 | １００℃を超える高温下でも安定して動作可能な水素製造装置を提供できる。また、水素製造方法も提供できる。 |
技術概要) |
水電解部と、セル加熱部と、を有する水素製造装置であって、
前記水電解部は、水電解セルと、電源とを有し、 前記水電解セルは、固体高分子電解質膜と、前記固体高分子電解質膜の一方側に配置されたアノード電極触媒層と、前記固体高分子電解質膜の他方側に配置されたカソード電極触媒層と、前記アノード電極触媒層及び前記カソード電極触媒層のそれぞれに電気的に接続された一対の給電体とを有し、 前記電源は、前記給電体の間に電流を印加できるよう前記水電解セルと接続され、 前記セル加熱部は、前記水電解セルの温度を制御するためのヒータを有し、 前記固体高分子電解質膜は、繰り返し単位１個あたり少なくとも１個以上のスルホン酸基含有基を有する高分子化合物を含有し、前記高分子化合物は、下記式１で表される部分構造を有する水素製造装置。 【化１】 （式１中、Ｌ↑Ａは単結合、又は、２価の基を表し、Ａｒ↑１はアリーレン基又はヘテロアリーレン基であって、水素原子の少なくとも１つがスルホン酸基含有基で置換された基を表し、＊は結合位置を表す。） |
| イメージ図 | |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
)
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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