幹細胞の培養用の足場、幹細胞の培養方法、及びFNW基材の製造方法。

開放特許情報番号
L2023000440
開放特許情報登録日
2023/5/15
最新更新日
2023/5/15

基本情報

出願番号 特願2020-080772
出願日 2020/4/30
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2021-171035
公開日 2021/11/1
発明の名称 幹細胞の培養用の足場、幹細胞の培養方法、及びFNW基材の製造方法。
技術分野 食品・バイオ、化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 培養用の足場及びこれを用いる幹細胞の培養方法また、FNW基材の製造方法
目的 大面積でナノスケールの表面形状を連続的に調整できるFNW基材の作製方法を提供する。
また、大面積で、幹細胞を、多能性及自己複製能を維持しながら培養可能とするナノスケールの表面形状を有する足場を提供する。
効果 FNW基材のナノスケールの表面形状を適宜調整できることを見出した。
また、幹細胞が長期間多能性及び自己複製能を維持できることを見出した。
技術概要
針状のフラーレンナノウィスカー(FNW)を含む幹細胞培養用の足場であって、前記針状のFNWが配向され、これにより、ナノスケールの尾根と谷の交互の繰り返しを含む表面形状が形成されている、足場。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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