ホウ素原子層シートおよび積層シートの液晶

開放特許情報番号
L2023000269
開放特許情報登録日
2023/4/13
最新更新日
2023/4/13

基本情報

出願番号 特願2019-005297
出願日 2019/1/16
出願人 国立大学法人東京工業大学
公開番号 特開2019-137601
公開日 2019/8/22
登録番号 特許第6656564号
特許権者 国立大学法人東京工業大学
発明の名称 ホウ素原子層シートおよび積層シートの液晶
技術分野 化学・薬品、無機材料、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 ホウ素原子層シートおよび積層シートの液晶
目的 新規なホウ素原子層シートおよび積層シートが得られるサーモトロピック液晶およびリオトロピック液晶、並びにその製造方法の提供。
効果 例えば、有機溶媒を含む溶媒中に、不活性ガス雰囲気下でMBH↓4を添加し溶液を調製し、この溶液を、酸素を含む雰囲気に曝すことによって製造することができる。酸素を含む雰囲気に曝す工程では、原子層シートや積層シートの結晶を成長させることができる。
技術概要
骨格元素にホウ素と酸素を有し、ホウ素−ホウ素結合を有する非平衡結合によりネットワーク化された、酸素とホウ素のモル比率(酸素/ホウ素)が1.5未満である複数の原子層シート間に金属イオンとしてアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを内包する積層シートを含み、
前記原子層シートが、末端部位および/または欠損部位に、B2O3単位を含むホウ素酸化物部位を有するサーモトロピック液晶。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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