ホウ素原子層シートおよび積層シートとその製造方法

開放特許情報番号
L2023000268
開放特許情報登録日
2023/4/13
最新更新日
2023/4/13

基本情報

出願番号 特願2018-020443
出願日 2018/2/7
出願人 国立大学法人東京工業大学
公開番号 特開2019-137570
公開日 2019/8/22
登録番号 特許第6656563号
特許権者 国立大学法人東京工業大学
発明の名称 ホウ素原子層シートおよび積層シートとその製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 ホウ素原子層シートおよび積層シートとその製造方法
目的 各種産業への応用が期待できる新規ホウ素原子層シート及び積層シート、それらの製造方法を提供する。
効果 各種産業への応用が期待できる。ホウ素の原子層物質のボトムアップ合成や大気圧中での液相合成、また大気中で安定であることは、従来技術と対比して特徴的な知見であり、このホウ素層状単結晶は物理的および化学的溶解法により単層化することができる。物理的な力を結晶に加えることで、基板上に単層に相当する厚さのシート物質を得ることができる。
技術概要
骨格元素にホウ素と酸素を有し、ホウ素−ホウ素結合を有する非平衡結合によりネットワーク化された、酸素とホウ素のモル比率(酸素/ホウ素)が1.5未満であり、ホウ素と酸素からなる原子層がアニオン性である原子層シート。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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