光熱変換基板、その製造方法、それを用いた赤外線センサおよび反応性基板
- 開放特許情報番号
- L2023000218
- 開放特許情報登録日
- 2023/3/29
- 最新更新日
- 2023/3/29
基本情報
| 出願番号 | 特願2021-027354 |
|---|---|
| 出願日 | 2021/2/24 |
| 出願人 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2022/9/5 |
| 発明の名称 | 光熱変換基板、その製造方法、それを用いた赤外線センサおよび反応性基板 |
| 技術分野 | 情報・通信 |
| 機能 | 機械・部品の製造 |
| 適用製品 | 光熱変換基板、その製造方法、それを用いた赤外線センサおよび反応性基板 |
| 目的 | 光熱変換効率を増大させた光熱変換用基板、その製造方法、それを用いた赤外線センサおよび反応性基板を提供する。 |
| 効果 | 効率的に吸収した光を熱に変換できるとともに、実効的な熱伝導率が異方性を有するため、熱の保持効果に優れる。この結果、光熱変換効率が増大した光熱変換用基板を提供できる。 |
技術概要) |
光の照射によって発熱する光熱変換基板であって、
前記光の波長λにおける複素誘電率の虚部が正である材料からなり、 表面に互いに独立したピラーからなるナノ構造を有し、 前記ピラーの周期は、前記波長λの２倍以下であり、 前記ピラーの幅に対する前記ピラーの高さの比は、０．５以上であり、 前記ピラーの周期に対する前記ピラーの幅の比は、０．１以上１未満の範囲である、光熱変換基板。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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