高耐性電子透かし法
- 開放特許情報番号
- L2023000025
- 開放特許情報登録日
- 2023/1/26
- 最新更新日
- 2023/1/26
基本情報
| 出願番号 | 特願2019-087181 |
|---|---|
| 出願日 | 2019/5/3 |
| 出願人 | 河村 尚登 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2020/11/12 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 河村 尚登 |
| 発明の名称 | 高耐性電子透かし法 |
| 技術分野 | 電気・電子、情報・通信 |
| 機能 | 検査・検出 |
| 適用製品 | 電子透かし方法 |
| 目的 | 高画質と編集・加工に対する耐性を維持し、結託攻撃に対しても十分強固な電子透かし法を得る。アルゴリズム公開型電子透かし法において、第三者が鍵なしに埋め込みパターンの解析により埋め込みパターンを割り出すことが出来ない強い耐性を示す電子透かし法を得る。 |
| 効果 | 鍵なしでは透かしの除去ができない安全な電子透かしを得ることができる。
鍵により元の画像に復元可能である。 |
技術概要) |
画像データI(x,y)をR× Rのブロックに分割し、ブロック毎に透かし情報ビットに対応した異なるパターンを埋め込む電子透かし法において、
埋め込みパターンはグリーンノイズ特性を示す複数の異なる基本パターンPi(x,y)を、ブロック毎に異なる位相シフト量(x0,y0)（ただし、0≦x0,y0＜R）を用いて、x方向にx0、y方向にy0だけシフトさせたもので、 位相シフト量（x0,y0）は、乱数発生器で発生し位相シフトリストL(n)(nはブロック番号)に記憶し、 鍵として、基本パターンPi(x,y)、埋め込み強度（gain）及び位相シフトリストL(n)を保管し、 透かし情報の抽出は、透かしの埋め込まれた画像データをブロックに分割し、ブロックのフーリエスペクトルパターンの形状から、埋め込みビット情報を抽出するもので、位相シフト量によらず同じ抽出ソフトウェアで実行可能であり、 透かしの除去は、透かしの埋め込まれた画像W(x,y)に、鍵を用いて、 I(x,y)=W(x,y)-gain・P'i(x,y) なる演算にて除去を行い原画に戻すことや新たな情報を埋め込むことが可能な可逆型電子透かし方法。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【可】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | 河村 尚登 |
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その他の情報
| 関連特許 |
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