スピントルク発生素子、その製造方法、及び、磁化制御装置

開放特許情報番号
L2022002103
開放特許情報登録日
2022/12/28
最新更新日
2022/12/28

基本情報

出願番号 特願2020-553879
出願日 2019/10/28
出願人 国立研究開発法人理化学研究所
公開番号 WO2020/090719
公開日 2020/5/7
発明の名称 スピントルク発生素子、その製造方法、及び、磁化制御装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 スピントルク発生素子の製造方法、及び、スピントルク発生素子を備える磁化制御装置
目的 比重の大きい導体層を用いなくても、導体層の電流によりスピントルクを発生できる技術を提供する。
効果 比重の大きい導体層を用いなくても、導体層の電流によりスピントルクを発生することが可能となる。
技術概要
電流が供給される導体層と、該導体層の一方側の面に形成される絶縁層と、前記導体層の他方側の面に形成される強磁性層とを備え、
前記導体層の電流により、前記強磁性層の磁化に作用するスピントルクを発生させる、
スピントルク発生素子。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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