ゼータ電位制御法を用いた処理方法
- 開放特許情報番号
- L2022001951
- 開放特許情報登録日
- 2022/12/2
- 最新更新日
- 2022/12/2
基本情報
| 出願番号 | 特願2015-025880 |
|---|---|
| 出願日 | 2015/2/12 |
| 出願人 | 秋田県、国立大学法人秋田大学 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2016/8/18 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 秋田県、国立大学法人秋田大学 |
| 発明の名称 | ゼータ電位制御法を用いた処理方法 |
| 技術分野 | 機械・加工、電気・電子 |
| 機能 | 制御・ソフトウェア |
| 適用製品 | ゼータ電位制御方法、及び分散溶液製造方法 |
| 目的 | 分散溶液のゼータ電位を制御する新たな方法を開発する。 |
| 効果 | 分散溶液のゼータ電位の絶対値を高める。ゼータ電位の絶対値を高める程度を調整することができる。 |
技術概要![]() |
溶媒中に粒子が分散した分散溶液のゼータ電位を制御するゼータ電位制御方法において、
前記分散溶液の流れ方向に対して、電界が垂直に加わるように対電極を前記分散溶液の流れに沿って設置し、 前記対電極により20Hz〜1kHzの周波数で変動する電界を前記分散溶液に印加することで、前記分散溶液のゼータ電位の絶対値を高めることを特徴とするゼータ電位制御方法。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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