微細加工された酸化物の膜の形成方法

開放特許情報番号
L2022001774
開放特許情報登録日
2022/11/7
最新更新日
2023/11/30

基本情報

出願番号 特願2019-141853
出願日 2019/8/1
出願人 国立大学法人金沢大学
公開番号 特開2021-026062
公開日 2021/2/22
登録番号 特許第7357903号
特許権者 国立大学法人金沢大学
発明の名称 微細加工された酸化物の膜の形成方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 酸化物からなる膜の選択的成長技術
目的 所定の微細形状又はパターニングされた状態に成膜できる酸化物の膜の形成方法の提供。
効果 所定の微細形状にあるいは微細にパターニングされた酸化物の成膜に対して融点が高く、水による潮解性に優れたa−CaOの堆積膜を水リフトオフ法の犠牲層に用いたので、精密に制御された選択成長膜を形成することができる。
技術概要
基板の表面にフォトレジスト材料を用いて所定の微細形状又はパターニングされたフォトレジスト層を形成するステップと、
前記表面にa−CaO膜を形成するステップと、
次に溶剤に浸漬し前記フォトレジスト層を有する部分を除去するステップと、
次に前記表面に酸化物の膜を成長させるステップと、
次に水に浸漬して前記a−CaO膜を有する部分を除去するステップとを有することを特徴とする微細加工された酸化物の膜の形成方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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