斜入射干渉計
- 開放特許情報番号
- L2022001546
- 開放特許情報登録日
- 2022/10/12
- 最新更新日
- 2022/10/12
基本情報
出願番号 | 特願2014-031522 |
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出願日 | 2014/2/21 |
出願人 | 株式会社ミツトヨ |
公開番号 | |
公開日 | 2015/8/27 |
登録番号 | |
特許権者 | 株式会社ミツトヨ |
発明の名称 | 斜入射干渉計 |
技術分野 | 情報・通信 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | 斜入射干渉計 |
目的 | 被測定面に加工痕等がある場合でも、高精度な形状測定が可能な斜入射干渉計を提供する。 |
効果 | 光源からの光を参照光及び測定光に分離し、測定光を測定対象に対して斜めから入射させ、測定対象から反射された測定光と参照光とを干渉させることで測定対象の被測定面の形状を観察する斜入射干渉計に利用できる。 |
技術概要 |
被測定面の法線に対して斜め方向から測定光を照射して、被測定面から反射された測定光と参照光とを干渉させて被測定面の形状を測定する斜入射干渉計であって、
前記被測定面を有する測定対象を載置するステージと、 前記ステージを回転させる回転駆動部と、 光を照射する光源と、 前記光源からの光を前記参照光及び前記測定光に分割する光分割部と、 前記参照光及び前記測定光の光量比率を変更する比率変更部と、 前記参照光、及び前記被測定面で反射された前記測定光を合成する光合成部と、 前記参照光及び前記測定光の合成光を受光する受光部と、 前記測定光の光量を検出する測定光量検出部と、 前記測定光の光量が所定範囲内となるように前記比率変更部を制御する光比率制御部と、を備え、 前記回転駆動部は、前記ステージを所定角度間隔で回転させ、 前記光比率制御部は、前記ステージを所定角度間隔で回転される毎に、前記比率変更部を制御して前記光量比率を変更する ことを特徴とする斜入射干渉計。 |
実施実績 | 【試作】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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