HEMT

開放特許情報番号
L2022001429
開放特許情報登録日
2022/9/9
最新更新日
2022/9/9

基本情報

出願番号 特願2018-196889
出願日 2017/6/1
出願人 国立研究開発法人科学技術振興機構
公開番号 特開2019-041113
公開日 2019/3/14
登録番号 特許第6952344号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 HEMT
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 HEMT素子とその製造方法
目的 高ドナー濃度領域においても高い電子移動度を示すn型導電型を示す2元系、3元系または4元系の窒化物半導体、より具体的には、13族窒化物半導体膜を容易に製造し、それを用いたHEMT素子を提供する。
効果 半導体デバイスとして利用し易く良質な13族窒化物半導体膜を提供することができる。
技術概要
ソース、ゲート及びドレインが備えられ、ソース電極とドレイン電極とのコンタクト層に薄膜の窒化物半導体が用いられたHEMTであって、
前記窒化物半導体は、窒素と、B、Al、GaまたはInからなる群より選ばれる少なくとも1種の13族元素を含有し、電子濃度が1×10↑(20)cm↑(-3)以上で、且つ、比抵抗が0.3×10↑(-3)Ω・cm以下である、HEMT。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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