| 出願番号 |
特願2021-111947 |
| 出願日 |
2021/7/6 |
| 出願人 |
国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 |
| 公開番号 |
特開2022-027504 |
| 公開日 |
2022/2/10 |
| 登録番号 |
特許第7564547号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 |
| 発明の名称 |
ビームプロファイルモニタ |
| 技術分野 |
情報・通信、電気・電子 |
| 機能 |
機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
ビームプロファイルモニタ |
| 目的 |
荷電粒子ビームとの間の相互作用によるプローブの熱負荷が大きな場合であっても、荷電粒子ビームのビームプロファイルを安定して測定する。 |
| 効果 |
荷電粒子ビームとの間の相互作用によるプローブの熱負荷が大きな場合であっても、荷電粒子ビームのビームプロファイルを安定して測定することができる。 |
技術概要
 |
荷電粒子ビームの進行方向と交差する方向に延伸し、前記荷電粒子ビームに照射された際の特性によって前記荷電粒子ビームのビームプロファイルを測定するために用いられる導電性のプローブが用いられるビームプロファイルモニタであって、
前記プローブが、モザイクスプレッド値が１０°以下である高配向性グラファイトで構成されたことを特徴とするビームプロファイルモニタ。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)