光活性層及びその製造方法

開放特許情報番号
L2022001196
開放特許情報登録日
2022/8/10
最新更新日
2022/8/10

基本情報

出願番号 特願2019-189642
出願日 2019/10/16
出願人 国立大学法人豊橋技術科学大学
公開番号 特開2021-064739
公開日 2021/4/22
発明の名称 光活性層及びその製造方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 光活性層及び光エネルギーを電気エネルギーに変換できる光活性層の製造方法
目的 CuO層及びCu↓2Oの両層が光活性層として動作し、大きな光電流密度を実現するために、精密な層厚制御と加熱処理を伴わない形成技術を確立する。
効果 バンドギャップエネルギーの異なるpn接合型太陽電池を複数接合した多接合型太陽電池と比較して、複数のバンドギャップエネルギーを有するCuO層及びCu↓2O層の積層体からなる、従来よりも安価で、高変換効率の光活性層を作製することが可能である。また、本光活性層は太陽電池あるいは太陽光を活用した光電気化学反応による水素製造に用いる光カソードとしても機能する。
技術概要
CuO層とCu↓2O層が積層した構造を有する光活性層。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2022 INPIT