レーザ加工用ステージおよびレーザ加工装置

開放特許情報番号

L2022001182

開放特許情報登録日

2022/8/17

最新更新日

2022/8/17

基本情報

出願番号	特願2010-255825
出願日	2010/11/16
出願人	芝浦メカトロニクス株式会社
公開番号	特開2011-240405
公開日	2011/12/1
登録番号	特許第5757722号
特許権者	芝浦メカトロニクス株式会社
発明の名称	レーザ加工用ステージおよびレーザ加工装置
技術分野	機械・加工
機能	機械・部品の製造
適用製品	レーザ加工用ステージとレーザ加工装置
目的	加工光学系に対する被処理体の移動方向を切り替える際に、相対的な減速時間、停止時間および加速時間を減らすことで（場合によっては０とすることで）、精度良くレーザ加工することができるレーザ加工用ステージとレーザ加工装置を提供する。
効果	被処理体を保持する保持部の移動方向を切り替える際に、減速時間、停止時間および加速時 間を減らすことで（場合によっては０とすることで）、精度良くレーザ加工することができる。
技術概要	レーザ照射部から照射されるレーザ光によって加工される被処理体を保持する保持部と、 保持部が載置されるとともに第一上方軸を有し、該保持部を該第一上方軸に沿って移動させる第一上方ステージと、 第一上方ステージが載置されるとともに第一下方軸を有し、該第一上方ステージを該第一下方軸に沿って移動させる第一下方ステージと、 第一上方ステージおよび第一下方ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、 第一上方軸が延在する直線と第一下方軸が延在する直線が、同じ方向の成分を含み、 制御部は、固定位置を基準として保持部の移動方向を切り替える際に、第一上方ステージによって保持部を切り替える前の方向の成分を含む方向に相対的に移動させるとともに第一下方ステージによって第一上方ステージを切り替わった後の方向の成分を含む方向に相対的に移動させる、または、第一下方ステージによって第一上方ステージを切り替える前の方向の成分を含む方向に相対的に移動させるとともに第一上方ステージによって保持部を切り替わった後の方向の成分を含む方向に相対的に移動させ、 第一下方軸と第一上方軸が平行に配置されていることを特徴とするレーザ加工 用ステージ。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【可】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	芝浦メカトロニクス株式会社

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】