無電解めっき浴、三酸化モリブデン膜の製造方法、及び化学センサの製造方法
- 開放特許情報番号
- L2022001164
- 開放特許情報登録日
- 2022/8/16
- 最新更新日
- 2022/8/16
基本情報
| 出願番号 | 特願2013-014448 |
|---|---|
| 出願日 | 2013/1/29 |
| 出願人 | ＫＯＡ株式会社 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2014/8/14 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | ＫＯＡ株式会社 |
| 発明の名称 | 無電解めっき浴、三酸化モリブデン膜の製造方法、及び化学センサの製造方法 |
| 技術分野 | 金属材料 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | 三酸化モリブデン膜の製造方法、及びこの製造方法を含む化学センサの製造方法 |
| 目的 | 三酸化モリブデン膜を基板に簡便かつ迅速に形成でき、汎用性が高い無電解めっき浴、三酸化モリブデン膜の製造方法、及び化学センサの製造方法を提供する。 |
| 効果 | 三酸化モリブデン膜を基板に簡便かつ迅速に形成でき、汎用性が高いので、従来よりも無電解めっきによる三酸化モリブデン膜の優れた生産性を実現することができる。 |
技術概要) |
触媒が付された基板を浸漬させて、この基板に三酸化モリブデン膜を被覆するための無電解めっき浴であって、
モリブデン酸リチウム及びモリブデン酸ナトリウムの少なくとも一方と、 ジメチルアミンボランと、 硝酸と、 アルコールと、 蒸留水と、 を含有し、 前記モリブデン酸リチウム及び前記モリブデン酸ナトリウムの少なくとも一方は、０．０１モル／Ｌ以上０．５モル／Ｌ以下で、 前記ジメチルアミンボランは、０．００１モル／Ｌ以上０．１モル／Ｌ以下で、 前記硝酸は、０．０５モル／Ｌ以上０．１モル／Ｌ以下で、 前記アルコールは、７０容量％以上９０容量％以下で、 前記蒸留水は、１０容量％以上３０容量％以下である ことを特徴とする無電解めっき浴。 |
| 実施実績 | 【試作】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【可】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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