シラノール基密度を算出する方法

開放特許情報番号
L2022001022
開放特許情報登録日
2022/7/8
最新更新日
2022/7/8

基本情報

出願番号 特願2016-086833
出願日 2016/4/25
出願人 株式会社東レリサーチセンター
公開番号 特開2017-198458
公開日 2017/11/2
登録番号 特許第6803567号
特許権者 株式会社東レリサーチセンター
発明の名称 シラノール基密度を算出する方法
技術分野 機械・加工、無機材料、化学・薬品
機能 材料・素材の製造、表面処理、検査・検出
適用製品 材料分析
目的 シリカ微粒子等の内部及び表面に存在するシラノール基の内、シランカップリング剤と反応することが可能なシラノール基の密度を測定する。
効果 シランカップリング剤と反応可能なシラノール基の相対量ではなく絶対量を算出する。且つ、大気と完全に隔離した実験系を用いた厳密な水分除去、及び、温湿度管理下でのpH調整等といった煩雑な操作を伴わずに、シラノール基密度を測定できる。
技術概要
 
1.シラノール基を有する物質のシラノール基に、分子内にシラノール基と反応する官能基を一つ有するシランカップリング剤を結合させ、その結合量の測定値からシラノール基密度を算出する方法。
2.シラノール基を有する物質の表面にシラノール基が存在する前記シラノール基密度を算出する方法。
3.シランカップリング剤が、シラノール基と反応する官能基以外の分子内部分構造に炭素、水素以外の元素を有している前記シラノール基密度を算出する方法。
4.シランカップリング剤は、シラノール基と反応する官能基以外の部分構造に弗素、塩素、臭素、沃素から選ばれる少なくとも一つのハロゲン元素を有している前記シラノール基密度を算出する方法。
5.シランカップリング剤結合量の測定が、各種元素定量法、NMR(核磁気共鳴)分光法、XPS(X線光電子分光法)、AES(オージェ電子分光法)、IR(赤外分光法)、NIR(近赤外分光法)、UV−VIS(紫外可視吸収分光法)、その組み合わせから選ばれる少なくとも一つである前記シラノール基密度を算出する方法。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 詳細相談

アピール情報

アピール内容 本発明により、シランカップリング剤と反応可能なシラノール基の密度を算出することが可能であり、無機材料や複合材等の材料分野、及び、化学分析分野で有効に利用できる。

登録者情報

登録者名称 株式会社東レリサーチセンター

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
追加情報 【国際特許分類】
G01N 31/00 (2006.01)
G01N 23/2273 (2018.01)
G01N 23/2276 (2018.01)
G01N 24/00 (2006.01)
G01N 24/08 (2006.01)
G01N 24/12 (2006.01)
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