マルチターゲットスパッタ装置

開放特許情報番号
L2022000991
開放特許情報登録日
2022/6/29
最新更新日
2022/6/29

基本情報

出願番号 特願2010-007609
出願日 2010/1/16
出願人 独立行政法人国立高等専門学校機構
公開番号 特開2011-144434
公開日 2011/7/28
登録番号 特許第5443181号
特許権者 独立行政法人国立高等専門学校機構
発明の名称 マルチターゲットスパッタ装置
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 複数のターゲットを配置したマルチターゲットスパッタ装置
目的 真空チャンバ内の雰囲気を維持しつつ順次複数のターゲットによる成膜が可能であるとともに、構造がシンプルで小型化、低コスト化に優れたマルチターゲットスパッタ装置を提供する。
効果 真空チャンバ内の雰囲気を維持しつつ基板の下方対向位置に前記ターゲット板を順次位置させ、順次複数のターゲットによる成膜が可能であるとともに、構造がシンプルで小型化、低コスト化に優れたマルチターゲットスパッタ装置を提供できる。
技術概要
スパッタにより薄膜が形成される基板と、薄膜の母材となる複数のターゲット板とを真空チャンバ内に配置し、基板の下方対向位置にターゲット板を順次位置させ、薄膜を基板上に形成するマルチターゲットスパッタ装置において、
基板の下方に配置される導電性の板体であって、略水平に回転可能に支持され、その回転中心から一定の距離の円周に沿って開口した複数の貫通孔を有する回転板体と、
回転板体に設けられ、貫通孔の略真下にターゲット板を略水平に支持するターゲット支持部と、
ターゲット支持部に設けられ、ターゲット板の裏面に当接する導電性のプレートであって、回転板体から絶縁されたバッキングプレートと、
バッキングプレートを介してターゲット板を所定の電位とするターゲット電極と、
ターゲット電極を昇降させる昇降部と、
基板とターゲット板との間の空間を囲繞する円筒状の囲繞部材と、を備え、
回転板体が回転して基板の下方対向位置にターゲット板を順次位置させ、昇降部がターゲット電極を上昇させてバッキングプレートの裏面に押し当てることを特徴とするマルチターゲットスパッタ装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 独立行政法人国立高等専門学校機構 熊本高等専門学校

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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