粒子線照射システム、粒子線照射方法、照射計画プログラム、照射計画装置、電磁場発生装置、および照射装置

開放特許情報番号
L2022000931
開放特許情報登録日
2022/6/10
最新更新日
2022/6/10

基本情報

出願番号 特願2020-525729
出願日 2019/6/17
出願人 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
公開番号 WO2019/244854
公開日 2019/12/26
発明の名称 粒子線照射システム、粒子線照射方法、照射計画プログラム、照射計画装置、電磁場発生装置、および照射装置
技術分野 食品・バイオ、化学・薬品
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 粒子線照射システム、粒子線照射方法、照射計画プログラム、照射計画装置、電磁場発生装置、および照射装置
目的 粒子線の細胞殺傷効果を変化させることができる粒子線照射システム、粒子線照射方法、照射計画プログラム、照射計画装置、電磁場発生装置、および照射装置を提供する。
効果 粒子線の細胞殺傷効果を変化させることができる。
技術概要
照射対象に粒子線を照射する照射装置と、前記照射装置による前記粒子線の照射計画を作成する照射計画装置とを有する粒子線照射システムであって、
前記粒子線が前記照射対象に与える細胞効果に変化を与える磁場又は/及び電場を発生させる電磁場発生装置を備えた
粒子線照射システム。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
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