分光測定装置及び分光測定方法
- 開放特許情報番号
- L2022000699
- 開放特許情報登録日
- 2022/5/11
- 最新更新日
- 2022/12/13
基本情報
出願番号 | 特願2018-112764 |
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出願日 | 2018/6/13 |
出願人 | 国立大学法人 香川大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2019/12/19 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立大学法人 香川大学 |
発明の名称 | 分光測定装置及び分光測定方法 |
技術分野 | 情報・通信 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | 測定対象物の分光特性を利用して該測定対象物の物性を定性的又は定量的に測定する技術 |
目的 | 装置を大きくすることなく、正確で且つ高波長分解能の分光特性を測定できるようにする。 |
効果 | 装置を大きくすることなく、正確で且つ高波長分解能の分光特性を測定できる。また、従来の分光測定装置において干渉像を得るために用いていた結像レンズ等の光学部材が不要であるため、装置の小形化を図ることができる。 |
技術概要 |
a) 測定対象物の測定点から発せられた光を一つの平行光束に統合して出射する統合光学系と、
b) 受光面を有し、該受光面上の光の強度分布を検出する検出器と、 c) 前記統合光学系から出射された平行光束を第1光束と第2光束に分割し、該第1光束と該第2光束を、それらの間に光路長差を付与しつつ前記受光面に向けて出射し、前記受光面における前記第1光束の入射領域の少なくとも一部と前記第2光束の入射領域の少なくとも一部が重複するように、前記第1光束及び前記第2光束を前記受光面に面状に入射させる位相シフタと、 d) 前記受光面における前記第1光束の入射領域と前記第2光束の入射領域が重複する領域の光の強度分布に基づき前記測定点のインターフェログラムを求め、このインターフェログラムをフーリエ変換することによりスペクトルを取得する処理部と を備えることを特徴とする分光測定装置。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【可】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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