癒着防止材及び癒着防止材の製造方法

基本情報

出願番号	特願2020-086032
出願日	2020/5/15
出願人	学校法人東京電機大学
公開番号	特開2021-178803
公開日	2021/11/18
発明の名称	癒着防止材及び癒着防止材の製造方法
技術分野	食品・バイオ、化学・薬品
機能	材料・素材の製造
適用製品	癒着防止材及び癒着防止材の製造方法
目的	手術中に取り扱いが容易な癒着防止材及び癒着防止材の製造方法を提供する。
効果	手術中に取り扱いが容易な癒着防止材及び癒着防止材の製造方法を提供可能である。
技術概要	分子量が７５０以上２０，０００以下であるポリグルタミル基で修飾された修飾ヒアルロン酸及び／又はその塩を含み、前記修飾ヒアルロン酸及び／又はその塩がヒアルロニダーゼ分解耐性を有する、癒着防止材。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者名称	東京電機大学