塗布型金属酸化物膜の製造方法、それを用いて製造された塗布型金属酸化物膜および電子デバイス

開放特許情報番号
L2022000433
開放特許情報登録日
2022/3/25
最新更新日
2022/3/25

基本情報

出願番号 特願2017-217598
出願日 2017/11/10
出願人 日本放送協会
公開番号 特開2019-091740
公開日 2019/6/13
登録番号 特許第6941538号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 塗布型金属酸化物膜の製造方法、それを用いて製造された塗布型金属酸化物膜および電子デバイス
技術分野 電気・電子、化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 塗布型金属酸化物膜の製造方法、それを用いて製造された塗布型金属酸化物膜および電子デバイス
目的 塗布製法を用いて金属酸化物膜を作成する際に、より簡易な製造プロセスにより形状にばらつきのない金属酸化物膜を形成し得る、大面積化も可能な塗布型金属酸化物膜の製造方法、それを用いて製造された塗布型金属酸化物膜および電子デバイスを提供する。
効果 生成された活性酸素種によって金属酸化物膜前駆体の所望の領域が酸化され、この後、酸化されていない領域がエッチングによって除去されることで、エネルギー線を照射した所望の形状通りに正確、かつ容易に金属酸化物膜のパターンを形成することができる。
これにより、より簡易な製造プロセスにより、形状にバラツキのない金属酸化物膜を形成することができる。
また、電子デバイスとしても、より簡易な製造プロセスにより、安価でバラツキのない特性のものを製造することができる。
技術概要
金属塩からなる無機酸塩を、水溶媒が50%以上の重量を占める溶媒に溶解して水溶性の金属酸化物の前駆体溶液を生成する前駆体溶液生成工程と、
前記前駆体溶液生成工程において生成された前記前駆体溶液を所定の被塗布体上に塗布する前駆体塗布工程と、
前記前駆体塗布工程で前記前駆体溶液が塗布された前記被塗布体を乾燥させるソフトアニーリング工程と、
前記ソフトアニーリング工程で乾燥処理がなされた前記被塗布体上に塗布された前記金属酸化物の前駆体膜の所定領域にエネルギー線を照射し、該所定領域を酸化させて金属酸化物膜を生成する金属酸化物膜生成工程と、
前記金属酸化物膜生成工程において前記金属酸化物膜とはされていない、前記所定領域以外の領域における前記金属酸化物の前駆体膜を除去して、ダイレクトパターニングを行うエッチング工程と、
を有することを特徴とする塗布型金属酸化物膜の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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