表面プラズモン測定装置および測定方法
- 開放特許情報番号
- L2022000055
- 開放特許情報登録日
- 2022/1/19
- 最新更新日
- 2022/1/19
基本情報
出願番号 | 特願2004-263457 |
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出願日 | 2004/9/10 |
出願人 | エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社、国立研究開発法人科学技術振興機構、国立大学法人埼玉大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2006/3/23 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立大学法人埼玉大学 |
発明の名称 | 表面プラズモン測定装置および測定方法 |
技術分野 | 情報・通信 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | 表面プラズモン測定装置および測定方法 |
目的 | 表面プラズモン測定技術を用いた抗原濃度測定において、従来よりも簡易な構成によって環境要因および夾雑物質の影響を排除するとともに、測定時間を短縮する。 |
効果 | 装置を小型化し、また装置自体の価格およびランニングコストを低減することができる。また、測定者に高度の技量や知識を要求することなく、正確な濃度測定が可能になる。
測定全体の工程数を低減し、測定時間を短縮することができる。 |
技術概要 |
表面に測定抗原および参照抗原のそれぞれに対応する少なくとも2種類の抗体が固定された金属薄膜と、
この金属薄膜の前記抗体が固定された表面に溶液を接触させた状態で前記金属薄膜の裏面に光を照射する光照射手段と、 前記金属薄膜からの表面プラズモン共鳴現象による吸収を含んだ反射光を受光する受光手段と、 この受光手段の出力に基づき前記溶液中の抗原の濃度に応じた応答を検出する応答検出手段と、 標準溶液に第1の濃度の前記参照抗原を添加した第1の溶液および前記標準溶液に第2の濃度の前記測定抗原を添加した第2の溶液をそれぞれ前記金属薄膜の表面に接触させて得られる第1および第2の応答のデータを記憶するデータ記憶手段と、 測定溶液に前記第1の濃度の前記参照抗原を添加した第3の溶液および前記測定溶液に前記測定抗原が含まれるもしくは添加された第4の溶液をそれぞれ前記金属薄膜の表面に接触させて得られる第3および第4の応答と、前記データ記憶手段に記憶されている前記データとに基づき、前記第4の溶液中の前記測定抗原の濃度を算出する濃度算出手段と を備えることを特徴とする表面プラズモン測定装置。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【可】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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