ニッケル皮膜の生成方法及びその装置

開放特許情報番号
L2022000029
開放特許情報登録日
2022/1/12
最新更新日
2022/1/12

基本情報

出願番号 特願2019-131921
出願日 2019/7/17
出願人 国立大学法人 宮崎大学
公開番号 特開2021-017604
公開日 2021/2/15
発明の名称 ニッケル皮膜の生成方法及びその装置
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造
適用製品 ニッケル皮膜の生成方法及びその装置
目的 融点の高いニッケルであっても、金属に対して容易に皮膜を生成することができ、かつめっき浴を用いることなく必要最小限の溶液でニッケル皮膜を生成することができるニッケル皮膜の生成方法及びその装置を提供する。
効果 金属に対して容易に皮膜を生成することができ、かつ大容積のめっき浴を用いることなく必要最小限の被膜液で大面積のニッケル皮膜を生成することができる。
技術概要
被膜液を用いて対象金属にニッケル皮膜を生成するニッケル皮膜の生成方法であって、
前記被膜液は、イオン状のニッケル及びその還元剤を含むニッケル溶液であり、
前記被膜液を充填させたノズルから前記対象金属に対し前記ニッケル溶液を噴射させ、前記対象金属の表面にニッケル皮膜を生成することを特徴とするニッケル皮膜の生成方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2022 INPIT