イットリア膜の成膜方法

開放特許情報番号
L2021001689
開放特許情報登録日
2021/11/25
最新更新日
2021/11/25

基本情報

出願番号 特願2010-028202
出願日 2010/2/10
出願人 有限会社 渕田ナノ技研、第一稀元素化学工業株式会社
公開番号 特開2011-162855
公開日 2011/8/25
登録番号 特許第5909737号
特許権者 有限会社 渕田ナノ技研、第一稀元素化学工業株式会社
発明の名称 イットリア膜の成膜方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 イットリア膜の成膜方法
目的 エアロゾル化ガスデポジション法によって良好な膜質を得ることが可能なイットリア膜の成膜方法を提供する。
効果 イットリア微粒子をエアロゾル原料とすることによって、良好な膜質(高密度、高密着力等)を有するイットリア膜を基材上に成膜することが可能である。
技術概要
平均粒子径が5.0μm以上9.6μm以下であり、かつ比表面積が1.0m↑2/g以上1.3m↑2/g以下である乾式法で作製されたイットリア微粒子を密閉容器に収容し、
前記密閉容器にガスを導入することによって、前記イットリア微粒子のエアロゾルを生成させ、
前記密閉容器に接続された搬送管を介して、前記密閉容器よりも低圧に維持された成膜室に前記エアロゾルを搬送し、
前記成膜室に収容された基材に前記搬送管から噴出した前記エアロゾルを衝突させることで、前記基材上に前記イットリア微粒子を堆積させる
イットリア膜の成膜方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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