水素化物イオン含有組成物、水素化物イオン含有組成物の製造方法、及び、化合物のヒドリド還元方法

開放特許情報番号
L2021001514
開放特許情報登録日
2021/10/11
最新更新日
2021/10/11

基本情報

出願番号 特願2019-065326
出願日 2019/3/29
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 特開2020-164444
公開日 2020/10/8
登録番号 特許第6831125号
特許権者 国立大学法人京都大学
発明の名称 水素化物イオン含有組成物、水素化物イオン含有組成物の製造方法、及び、化合物のヒドリド還元方法
技術分野 有機材料、化学・薬品
機能 材料・素材の製造
適用製品 水素化物イオン含有組成物、水素化物イオン含有組成物の製造方法、及び、化合物のヒドリド還元方法
目的 新規な水素化物イオン含有組成物、及びその製造方法、並びに、新規な化合物のヒドリド還元方法を提供する。
効果 新規な水素化物イオン含有組成物、及びその製造方法、並びに、新規な化合物のヒドリド還元方法を提供することができる。
技術概要
解離水素化物イオン、
スルホキシド系溶剤、ニトリル系溶剤、エーテル系溶剤、又は、第四級アンモニウム塩であるイオン液体であって、クラウンエーテル構造、クリプタンド構造、及び、スフェランド構造をいずれも含まない溶剤、並びに、
クラウンエーテル構造、クリプタンド構造、及び、スフェランド構造よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構造を有する包摂性化合物を含み、
前記包摂性化合物1モルに対する、前記解離水素化物イオンの含有量が、0.00001モル以上である
水素化物イオン含有組成物。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
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