水素の製造方法

開放特許情報番号
L2021001469
開放特許情報登録日
2021/10/5
最新更新日
2021/10/5

基本情報

出願番号 特願2020-005878
出願日 2020/1/17
出願人 学校法人早稲田大学
公開番号 特開2021-113141
公開日 2021/8/5
発明の名称 水素の製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 水素の製造方法等
目的 印加電圧や犠牲試薬の補助がない場合でも、光照射により極めて生成速度高く水素を製造することができる技術を提供する。
効果 新規で環境適合かつ水素生成速度が極めて高い水素の製造技術を提供することができる。
技術概要
チオフェン類を添加分子と共存させ導電性基板上で酸化重合反応させることによって得られたチオフェン重合体からなる光吸収および水還元触媒層(以下、光吸収水還元触媒層と記載する。)と、水酸化イオン含有水の酸化触媒(以下、「水・酸化触媒」と記載する。)とを組み合わせて、これらを水酸化イオン含有水に浸漬し、前記光吸収水還元触媒層に光照射することを含むことを特徴とする水素の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 本件は、『早稲田大学技術シーズ集(問合NO.2278)』に掲載されている案件です。

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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