光学活性硫黄架橋二核ルテニウム錯体及びその製造方法並びにかかる触媒を用いた光学活性化合物の製造方法及び新規光学活性化合物
- 開放特許情報番号
- L2021001291
- 開放特許情報登録日
- 2021/9/13
- 最新更新日
- 2023/1/20
基本情報
| 出願番号 | 特願2005-063876 |
|---|---|
| 出願日 | 2005/3/8 |
| 出願人 | 国立大学法人京都大学、東ソー株式会社 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2006/9/21 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 国立大学法人京都大学 |
| 発明の名称 | 光学活性硫黄架橋二核ルテニウム錯体及びその製造方法並びにかかる触媒を用いた光学活性化合物の製造方法及び新規光学活性化合物 |
| 技術分野 | 有機材料、機械・加工 |
| 機能 | 材料・素材の製造 |
| 適用製品 | 不斉合成用触媒として有用な光学活性ルテニウム錯体、その製法、それを触媒として用いた光学活性化合物の製造方法 |
| 目的 | 工業的に有用な新規な不斉合成用触媒及びそれを用いた新規な不斉合成反応を提供する。 |
| 効果 | 新規な光学活性ルテニウム錯体及びその製法が提供される。また、光学活性ルテニウム錯体は、新規な不斉合成反応用触媒であり、それを用いて合成される光学活性化合物は、医薬・農薬中間体、電子材料用原料として有用であり、本発明は工業的に極めて有意義である。 |
| 技術概要 |
一般式（１）
【化１】 ［上記式中のＲ↓１Ｓは、一般式（２） 【化２】 （上記式中、Ｒ↓２は炭素数１〜１０の直鎖又は分岐したアルキル基を示し、Ｒ↓３はフェニル基で核が１〜５置換されたフェニル基、置換フェニル基で核が１〜５置換されたフェニル基、ナフチル基で核が１〜５置換されたフェニル基、置換ナフチル基で核が１〜５置換されたフェニル基、フェニル基で核が１〜４置換された２−アルコキシフェニル基、置換フェニル基で核が１〜４置換された２−アルコキシフェニル基、ナフチル基で核が１〜４置換された２−アルコキシフェニル基又は置換ナフチル基で核が１〜４置換された２−アルコキシフェニル基を示す。） で表される基を示し、Ｃｐ↑＊はη↑５−Ｃ↓５Ｍｅ↓５（ペンタメチルシクロペンタジエン）を示す。］ で示される光学活性ルテニウム錯体。 |
| イメージ図 | |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
)
)
アピール情報
| アピール内容 | 京都大学「産学連携情報プラットフォーム（フィロ）」をご紹介します。
産学連携の新たな取り組みなど、有益な情報を発信しています。 https://philo.saci.kyoto-u.ac.jp/ |
|---|
登録者情報
| 登録者名称 | |
|---|---|
その他の情報
| 関連特許 |
|
|---|