焼結体、その製造方法、それを用いたターゲットおよびガスセンサ

開放特許情報番号
L2021001034
開放特許情報登録日
2021/8/6
最新更新日
2021/8/6

基本情報

出願番号 特願2019-164354
出願日 2019/9/10
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2020-158380
公開日 2020/10/1
発明の名称 焼結体、その製造方法、それを用いたターゲットおよびガスセンサ
技術分野 化学・薬品、無機材料、情報・通信
機能 材料・素材の製造、機械・部品の製造
適用製品 酸化インジウムを主成分とする焼結体、その製造方法、それを用いたターゲットおよびガスセンサ
目的 酸化インジウムを主成分とする高い相対密度を有する焼結体、その製造方法、それを用いたターゲットおよびガスセンサを提供する。導電性を制御した酸化インジウムを主成分とする高密度な焼結体、その製造方法、それを用いたターゲットおよびガスセンサを提供する。
効果 酸化インジウムを主成分とする焼結体は、液相となる温度の異なる元素を用いることにより、焼結体中
に空隙が生じることが抑制される。
さらに、相対密度が95%以上の高密度の焼結体を提供できる。得られた薄膜は、ガスセンサを提供できる。
酸化インジウムを主成分とする焼結体を製造する方法は、酸化インジウムに固溶したストロンチウムの一部が粒界相へと排出され、ゲルマニウムは酸化インジウムへと固溶するので、焼結体に空隙が発生することが抑制される。
さらに、相対密度が95%以上の固密度の焼結体を提供できる。
技術概要
酸化インジウムを主成分とする焼結体であって、
ストロンチウムと、
ゲルマニウムと
をさらに含有し、
前記ストロンチウムは、前記酸化インジウムに対して、酸化ストロンチウム換算で、0.1mol%以上0.5mol%以下の範囲で含有され、
前記ゲルマニウムは、前記酸化インジウムに対して、酸化ゲルマニウム換算で、0.1mol%以上0.5mol%以下の範囲で含有され、
前記換算された酸化ストロンチウムに対する前記酸化ゲルマニウムのモル比は、1以上3以下の範囲を満たす、焼結体。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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