ラジカル生成抑制剤

開放特許情報番号
L2021001017
開放特許情報登録日
2021/8/3
最新更新日
2021/8/3

基本情報

出願番号 特願2008-309720
出願日 2008/12/4
出願人 株式会社林原、JNC株式会社
公開番号 特開2010-132598
公開日 2010/6/17
登録番号 特許第5650882号
特許権者 株式会社林原
発明の名称 ラジカル生成抑制剤
技術分野 化学・薬品、有機材料、生活・文化
機能 材料・素材の製造
適用製品 化粧品
目的 本発明は、新規なラジカル生成抑制剤、該抑制剤を配合してなる抗酸化作用に優れた抗酸化用化粧料、及び、該抑制剤を用いたラジカル生成抑制方法を提供することを課題とする。
効果 本発明によれば、ラジカルの生成に対して優れた抑制能を発揮する新規なラジカル生成抑制剤、該抑制剤を配合してなる抗酸化作用に優れた抗酸化用化粧料、及び、該抑制剤を用いたラジカル生成抑制方法を提供することができる。本発明のラジカル生成抑制剤、抗酸化用化粧料、及び、ラジカル生成抑制方法は、飲食品、化粧品( 皮膚外用剤) 、医薬品、工業品などの分野で有用である。
技術概要
 
【課題】 新規なラジカル生成抑制剤、該抑制剤を配合してなる抗酸化作用に優れた抗酸化用化粧料、及び、該抑制剤を用いたラジカル生成抑制方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 α,β−トレハロースのヒドロキシメチル基を酸化したジカルボキシル化誘導体、及び、シクロ{→6)−α−D−グルコピラノシル−(1→3)−α−D−グルコピラノシル−(1→6)−α−D−グルコピラノシル−(1→3)−α−D−グルコピラノシル−(1→}の構造を有する環状四糖のヒドロキシメチル基を酸化したジカルボキシル化誘導体のいずれか一方又は両方を有効成分とするラジカル生成抑制剤、該抑制剤を配合してなる抗酸化作用に優れた抗酸化用化粧料、及び、該抑制剤を配合することを特徴とするラジカル生成抑制方法を提供することにより上記課題を解決する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 株式会社 林原

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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