ECRプラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置

開放特許情報番号
L2021000772
開放特許情報登録日
2021/6/4
最新更新日
2021/6/4

基本情報

出願番号 特願2011-252383
出願日 2011/11/18
出願人 住友理工株式会社、国立大学法人東海国立大学機構
公開番号 特開2013-108115
公開日 2013/6/6
登録番号 特許第5883274号
特許権者 住友理工株式会社、国立大学法人東海国立大学機構
発明の名称 ECRプラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 ECRプラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置
目的 表面の凹凸が小さい薄膜を形成することができるマグネトロンスパッタ成膜装置、および当該成膜装置に用いられ、低圧下で高密度のプラズマを生成可能なECRプラズマ生成装置を提供する。
効果 タッチパネル、ディスプレイ、LED(発光ダイオード)照明、太陽電池、電子ペーパー等に用いられる透明導電膜等の形成に有用である。
技術概要
真空容器内にマイクロ波を用いた電子サイクロトロン共鳴(ECR)によりプラズマを生成するECRプラズマ生成装置であって、
該真空容器内に配置され、マイクロ波を伝送し直線状に延在する矩形導波管と、
該矩形導波管の一面に配置され、該マイクロ波が通過する複数のスロットを有する板状のスロットアンテナと、
該スロットアンテナの該スロットを覆うように配置され、プラズマ生成領域側の表面は、該スロットアンテナに対して垂直に配置され、該スロットから入射する該マイクロ波の入射方向に平行である誘電体部と、
該誘電体部の裏面に配置され該誘電体部を支持する支持板と、
該支持板の裏面に配置され該プラズマ生成領域に磁場を形成する永久磁石と、
を備え、
該誘電体部から該磁場中に伝播する該マイクロ波によりECRを発生させながらプラズマを生成することを特徴とするECRプラズマ生成装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 住友理工株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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