マイクロ波プラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置

開放特許情報番号
L2021000771
開放特許情報登録日
2021/6/4
最新更新日
2021/6/4

基本情報

出願番号 特願2011-100736
出願日 2011/4/28
出願人 住友理工株式会社、国立大学法人東海国立大学機構
公開番号 特開2012-234643
公開日 2012/11/29
登録番号 特許第5829045号
特許権者 住友理工株式会社、国立大学法人東海国立大学機構
発明の名称 マイクロ波プラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置
技術分野 電気・電子、金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 マイクロ波プラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置
目的 表面の凹凸が小さい薄膜を形成することができるマグネトロンスパッタ成膜装置、および当該成膜装置に必要であり、低圧下でマイクロ波プラズマを生成可能なマイクロ波プラズマ生成装置を提供する。
効果 タッチパネル、ディスプレイ、LED(発光ダイオード)照明、太陽電池、電子ペーパー等に用いられる透明導電膜等の形成に有用である。
技術概要
真空容器内のガスを電離してマイクロ波プラズマを生成するマイクロ波プラズマ生成装置であって、
該真空容器内に配置され、マイクロ波を伝送し直線状に延在する矩形導波管と、
該矩形導波管の該真空容器内に表出する一面に配置され、該マイクロ波が通過する複数のスロットを有する板状のスロットアンテナと、
該矩形導波管の該一面側に、該スロットを覆うように該スロットアンテナに積層して配置され、該スロットを通過した該マイクロ波が入射する誘電体部と、を備え、
該スロットアンテナに対して垂直に配置され、該スロットから該誘電体部へ入射する該マイクロ波の入射方向と平行に配置される該誘電体部の表面に、該マイクロ波プラズマを生成することを特徴とするマイクロ波プラズマ生成装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 住友理工株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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