断層撮影装置

開放特許情報番号
L2021000740
開放特許情報登録日
2021/5/26
最新更新日
2021/5/26

基本情報

出願番号 特願2019-549128
出願日 2018/8/16
出願人 国立大学法人千葉大学
公開番号 WO2019/077857
公開日 2019/4/25
発明の名称 断層撮影装置
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 断層撮影装置
目的 断層撮影装置(断層測定装置)を診断目的で利用した場合、診断対象者の被曝量が低減できる断層撮影装置を提供する。
また、原子番号が高い物質の内部でも透視することができる断層撮影装置を提供する。
効果 診断対象者の被曝量を低減できる医療診断用断層撮影装置を提供することができる。また、原子番号が高い物質の内部でも透視することができる断層撮影装置を提供することができる。
技術概要
γ線を測定対象物に照射するγ線発生源と、前記測定対象物を通過したγ線の透過度に関する情報を測定する測定部と、前記測定部により測定したγ線の透過度に関する情報に基づき前記測定対象物の物質密度分布を算出する物質密度分布算出部を備える断層撮影装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【有】   
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