反射型断層撮影装置

開放特許情報番号
L2021000735
開放特許情報登録日
2021/5/26
最新更新日
2021/5/26

基本情報

出願番号 特願2019-082455
出願日 2019/4/24
出願人 国立大学法人千葉大学
公開番号 特開2020-180816
公開日 2020/11/5
登録番号 特許第6779535号
特許権者 国立大学法人千葉大学
発明の名称 反射型断層撮影装置
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 断層撮影装置
目的 γ線発生装置−γ線測定器−測定対象物の順に設置して、測定対象物の3次元物質密度分布が測定可能な反射型断層撮影装置を提供する。
効果 γ線発生装置−γ線測定器−測定対象物の順に配置して、測定対象物の3次元物質密度分布が測定可能な反射型断層撮影装置を提供できる。
技術概要
第1のγ線を測定対象物に照射するγ線発生源と、前記第1のγ線が透過するとともに前記測定対象物において散乱角度θで散乱した散乱γ線に関する情報を測定する第1の測定部と、を備え、前記第1の測定部は、前記γ線発生源と前記測定対象物との間に配置されている反射型断層撮影装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【有】   
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