表面孔を有するシリコン微粒子の製造方法、及びシリコン微粒子

開放特許情報番号
L2021000449
開放特許情報登録日
2021/4/12
最新更新日
2021/4/12

基本情報

出願番号 特願2018-192870
出願日 2018/10/11
出願人 学校法人東京電機大学
公開番号 特開2020-059632
公開日 2020/4/16
発明の名称 表面孔を有するシリコン微粒子の製造方法、及びシリコン微粒子
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 表面孔を有するシリコン微粒子の製造方法、及びシリコン微粒子
目的 簡易な操作と安価な材料を用いて、シリコン微粒子の表面に微細な孔を形成する手段を提供する。
効果 簡易な操作と安価な材料を用いて、シリコン微粒子の表面に微細な孔を形成する手段が提供される。
技術概要
フッ化水素酸及び遷移金属イオンを含む溶液にシリコン微粒子を浸漬することで、前記シリコン微粒子の表面に遷移金属粒子を析出させるとともに、当該析出に伴って、前記遷移金属粒子との接触部が酸化された前記シリコン微粒子の表面をフッ化水素酸でエッチングする第一エッチング工程と、
前記第一エッチング工程を経たシリコン微粒子から、前記遷移金属粒子を除去する除去工程と、を備えた、表面孔を有するシリコン微粒子の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【可】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 東京電機大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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